Jump to the content of the page

Bu tip polikapiller optikler X-radyasyonunun odaklanmasını sağlar. Uygulamaya göre optiklerin belirli parametreleri optimize edilebilir. Numune yüzeyinde küçük nokta boyutlarına veya yüksek yoğunluklara ulaşmak mümkündür. Optik çıkış ve örnek yüzeyi arasındaki çalışma mesafesinin artması daha büyük nokta boyutlarına yol açar.

Özellikler

XRF ve XPS uygulamaları için odaklanma polikapiller sistemi

Polikapiller büyük mercek Polikapiller mini mercek Polikapiller mikro mercek
Kaynak - giriş mesafesi f1 [mm]> 40> 40> 30
Uzunluk L [mm] 150-300 50-300 40-60
Çıkış - odak mesafesi f2 [mm]> 40> 10 5 - 25
Giriş boyutu Din [mm]> 5> 4> 2
Maksimum boyut Dmax [mm] <16 7-9 4-5
Çıkış boyutu Dout [mm]> 5> 2> 1
Çekim açısı Φ [rad] 0.05 - 0.2 0.04 - 0.15 0.05 - 0.1
Enerji aralığı [keV] 1-30 3-30 3-30
En uygun kaynak boyutu [µm]> 50 30 - 1000 30 - 50
Odak noktası büyüklüğü [µm]> 200 30 - 600 10 - 100
Yoğunluk kazancı 500-4000 1500-20000 1000-7000
Uygulamalar XRF, XRD µXRF, µXRD, µXPS ve iMOXS-SEM µXRF, µXRD ve µXPS
Jump to the top of the page