FISCHERSCOPE® XDV®
新增無與倫比的精度
採用優化的測量幾何
採用優化的測量幾何
高速 Z 軸,實現
超高速
樣品定位
樣品定位
增強的易用性
和
藉助 FISIQ® X 軟體的 使用者引導
藉助 FISIQ® X 軟體的 使用者引導
速度與精度的完美結合
專為最高速度、最高精度以及直觀易用而打造——這就是我們推出新一代FISCHERSCOPE® XDV® XRF儀器的方式。作為我們的高端XRF解決方案之一,該儀器專為可靠測量微結構而設計。結合我們前沿的 FISIQ® X 軟體,該設備可提供出色的測量性能。此外,簡化且高效的工作流程確保測量過程順暢,並顯著提升品質控制中的吞吐量。
超高速樣品定位。
Z軸高速,比原來快6倍*
快速樣品捕捉。
2秒內自動對焦 – 快14倍*
自動化操作。
自動或手動防護罩,提供最大靈活性
最佳樣品照明與影像擷取。
攝影機解析度高10倍*,多區域LED照明
* 與 FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-SDD 相比。
無與倫比的高精度與可重複結果。
最佳化的測量幾何結構
裝置狀態始終可見。
直覺式 180° 狀態指示燈
提升易用性與使用者引導。
全新 FISIQ® X 軟體
特色
具有鎢陽極的微聚焦管,可根據要求提供其他陽極
矽漂移檢測器 50 mm²,用於檢測薄層的最高精度
自動化罩與可程式化測量台,用於自動測量
4 個可變準直孔和 6 個可變濾片
作為完全受保護工具的個別核准
FISIQ® X 軟體,具備 AI 支援的頻譜模式,可實現更智慧的測量流程
自上而下無階段測量距離
樣品高度可達 140 mm
應用實例
- 分析極薄塗層,例如≤ 50 nm(0.002 mils)的金/鈀塗層
- 測量電子和半導體工業中的功能塗層,例如測定引線框架金層的塗層厚度,最小可達 2 nm(0.00008 mils)
- 測量矽晶片上的超薄塗層
- 測定晶片上的輕元素塗層(Al、Ti、NiP)
- 燃料電池和電池箔:有機基質(碳)中的金屬(鉑、銥、鈰;鎳、鈷、錳)
- 最高要求的金分析
- 複雜多層系統的測量
- 自動化測量,例如在品質控制方面
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