FISCHERSCOPE® XDV®
Mới6x ¹ ²
14x ¹
10x ¹
¹ So sánh với FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-SDD.
² Tùy thuộc vào bề mặt mẫu.
Tốc độ kết hợp với độ chính xác.
FISCHERSCOPE® XDV® là thiết bị đo huỳnh quang tia X cao cấp của Fischer và lý tưởng cho các phép đo tự động trên các cấu trúc nhỏ. Thiết bị gây ấn tượng với tính dễ sử dụng, tốc độ và độ chính xác tối đa. Đèn báo trạng thái toàn diện hiển thị trạng thái hiện tại của thiết bị chỉ trong nháy mắt, trong khi nắp đo có động cơ có thể được mở và đóng lại hoàn toàn tự động - để vận hành an toàn và thuận tiện. Phần mềm FISIQ® X XRF hiện đại đảm bảo các quy trình hiệu quả và suôn sẻ cũng như tăng thông lượng trong quy trình đo lường của bạn.
Trục Z tốc độ cao.
Để định vị nhanh các mẫu của bạn
Lấy nét tự động trong vòng 2 giây.
Thu thập và lấy nét đối tượng đo nhanh chóng để có quy trình đo lường hiệu quả hơn nữa
Camera tổng quan độ phân giải cao.
Giữ tổng quan tốt hơn với hình ảnh sắc nét và chi tiết hơn
Đèn LED nhiều vùng.
Chiếu sáng hoàn hảo mọi lúc, bất kể bề mặt nào
Nắp máy đo tự động.
Vận hành thủ công hoặc tự động cho phép linh hoạt tối đa
Hình học đo được tối ưu hóa.
Độ chính xác đo lường vô song nhờ khoảng cách được cải thiện giữa ống tia X, mẫu và đầu dò
Đèn báo trạng thái trực quan.
Kiểm tra trạng thái của thiết bị chỉ trong nháy mắt
Đặc trưng
Ống Microfocus với anode vonfram, các anode khác có sẵn theo yêu cầu
Máy đo tự động
Máy dò trôi silicon 20 mm² hoặc 50 mm² cho độ chính xác cao nhất trên các lớp mỏng
Khẩu độ có thể thay đổi 4 lần và bộ lọc có thể thay đổi 6 lần
Thiết bị bảo vệ toàn diện được phê duyệt loại
Phần mềm FISIQ® X với chế độ phổ được hỗ trợ bởi AI cho các quy trình đo lường thông minh hơn
Khoảng cách đo vô cấp với phép đo từ trên xuống
Chiều cao mẫu có thể lên tới 140 mm
Bàn đo có thể lập trình để đo tự động
Ví dụ ứng dụng
- Phân tích lớp phủ rất mỏng, ví dụ như lớp phủ vàng/palađi ≤ 50 nm (0,002 mils)
- Các phép đo lớp phủ chức năng trong ngành công nghiệp điện tử và bán dẫn, ví dụ như xác định độ dày lớp phủ của các lớp vàng xuống đến 2 nm (0,00008 mils) cho khung chì
- Đo lớp phủ siêu mỏng trên các tấm wafer silicon
- Xác định lớp phủ nguyên tố nhẹ trên các tấm wafer (Al, Ti, NiP)
- Lá pin và pin nhiên liệu: kim loại (Pt, Ir, Ce; Ni, Co, Mn) trong ma trận hữu cơ (cacbon)
- Phân tích vàng với các yêu cầu cao nhất
- Xác định các hệ thống phủ nhiều lớp phức tạp
- Các phép đo tự động, ví dụ như trong kiểm soát chất lượng
Bạn có ứng dụng nào khác không? Hãy liên hệ với chúng tôi!
































































