FISCHERSCOPE® X-RAY XDV-µ® WAFER
แม่นยำแม้ใช้เวลาในการวัดสั้น
มีขนาดเล็กที่สุด ด้วยขนาดจุดวัด 10 µm (FWHM)
เพื่อการวัดโครงสร้างขนาดเล็กที่เชื่อถือได้
¹ ประสิทธิภาพเพิ่มขึ้นสูงสุด 50: ปรับปรุงค่าเบี่ยงเบนมาตรฐานอย่างมีนัยสำคัญ และทำให้สามารถวัดหรือเวลาการวัดลดลงอย่างมากเมื่อเปรียบเทียบ DPP กับ DPP+.
² เลนส์คาปิลลารีระดับไฮเอนด์ที่ผลิตโดย Fischer ซึ่งเป็นผู้ผลิตเครื่องมือตรวจวัดเอกซเรย์ฟลูออเรสเซนซ์เพียงรายเดียวของโลกที่มีการผลิตโพลีคาปิลลารีเป็นของตัวเอง. มีโพลีคาปิลลารีระดับไฮเอนด์ให้เลือกสามแบบ – โซลูชันที่เหมาะสมสำหรับ
แต่ละการใช้งานของคุณ: halo-free 10 µm, halo-free 20 µm หรือ halo 20 µm.
ตอบสนองความต้องการทั้งหมดเพื่อการควบคุมคุณภาพเวเฟอร์ด้วยความแม่นยำ.
เนื่องจากตารางการวัดที่ตั้งโปรแกรมได้พร้อมหัวจับแผ่นเวเฟอร์สุญญากาศ และ microfocus tube Ultra ทำให้ FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFER ได้รับการปรับแต่งอย่างเหมาะสมที่สุดให้ตรงกับความต้องการของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์. เลนส์โพลีคาปิลลารีที่ติดตั้งไว้ในเครื่อง XRF แผ่รังสีเอกซ์ไปที่จุดตรวจวัดที่เล็กที่สุดที่ 10 หรือ 20 µm ใช้เวลาการตรวจวัดที่สั้นด้วยความเข้มสูง. ซึ่งช่วยให้คุณวิเคราะห์โครงสร้างจุลภาคแต่ละรายการได้แม่นยำยิ่งขึ้นโดยสมบูรณ์
โซลูชันแบบครบวงจร
XDV®-μ SEMI รวมกับตัวจัดการเวเฟอร์ที่คุณเลือก
เที่ยงตรงและแม่นยำ
การวางตำแหน่งจุดตรวจวัดบนโครงสร้างขนาดเล็กด้วยการจดจำภาพอัตโนมัติ
ตอบโจทย์ทุกความท้าทาย
ผลลัพธ์รวดเร็วและที่เชื่อถือได้สำหรับงานตรวจวัด
อัตโนมัติเต็มรูปแบบ
ให้เครื่องมือวัดของคุณทำงานแทนคุณเพียงคลิกเดียว
เลนส์โพลีคาปิลลารีที่ทันสมัยที่สุดในตลาด
เลนส์โพลีคาปิลลารีที่ผลิตภายในบริษัทของเราให้ผลการวัดที่โดดเด่นในเวลาการวัดสั้น
ประมวลผลด้วย DPP+ digital pulse
เวลาการวัดสั้นลงหรือการปรับปรุงส่วนเบี่ยงเบนมาตรฐาน*
*เปรียบเทียบกับ DPP
คุณสมบัติ
หลอดไมโครโฟกัส Ultra พร้อมขั้วบวกทังสเตนเพื่อประสิทธิภาพที่สูงขึ้นในจุดตรวจวัดที่เล็กที่สุดด้วย XRF-µ; โมลิบดีนัมแอโนดเป็นตัวเลือกเพิ่มเติม
DPP+ เพื่อความแม่นยำสูงสุดแม้ใช้เวลาในการวัดสั้น
ตัวกรองแบบเปลี่ยนได้ 4 เท่า
เลนส์โพลีคาปิลลารีที่ผลิตภายในบริษัทช่วยให้จุดตรวจวัดมีความเข้มสูงและขนาดเล็กเป็นพิเศษ
จุดวัดประมาณ.: Ø 10 หรือ 20 µm (FWHM)
รองรับความสูงของตัวอย่างที่วัดได้สูงสุด 5 มม.
Detector แบบ Silicon drift ขนาด 20 หรือ 50 มม.² เพื่อความแม่นยำสูงสุดในการวัดชั้นชุบที่บาง
โต๊ะสุญญากาศพร้อมที่จับสำหรับเวเฟอร์มาตรฐานทุกรูปแบบตั้งแต่ 150 - 300 มม.
ตัวเลือกมากมายสำหรับระบบอัตโนมัติด้วย WinFTM®
ตัวอย่างการใช้งาน
- การวัดโครงสร้างที่เล็กที่สุดบนเวเฟอร์ที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางสูงสุด 12 นิ้ว
- การวิเคราะห์ผิวเคลือบที่บางมาก เช่น ชั้นทอง/แพลเลเดียม ในระดับ < 10 นาโนเมตร
- การวัดอัตโนมัติ เช่น ในการควบคุมคุณภาพ
- การวัดค่าผิวเคลือบชุบหลายชั้นที่ซับซ้อน
คุณมีแอปพลิเคชันเพิ่มเติมหรือไม่? แล้วติดต่อ เรา!