FISCHERSCOPE® XDV®
Nieuwsnellere positionering
snellere autofocus
hogere cameraresolutie
¹ In vergelijking met FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-SDD.
² Afhankelijk van het oppervlak van het monster.
Snelheid ontmoet precisie.
De FISCHERSCOPE® XDV® is een high-end röntgenfluorescentiemeetapparaat van Fischer en is ideaal voor geautomatiseerde metingen aan kleine structuren. Het apparaat overtuigt door zijn gebruiksgemak, maximale snelheid en precisie. De all-round statusverlichting toont in één oogopslag de huidige status van het apparaat, terwijl de gemotoriseerde meetkap volledig automatisch geopend en weer gesloten kan worden - voor een veilige en handige bediening. De moderne FISIQ® X XRF software zorgt voor efficiënte en soepele processen en een hogere verwerkingscapaciteit in uw meetproces.
Snelle Z-as.
Voor snelle positionering van je monsters
Autofocus onder 2 seconden.
Snelle acquisitie en scherpstelling van uw meetobject voor nog efficiëntere meetprocessen.
Overzichtscamera met hoge resolutie.
Houd een beter overzicht met scherpere en meer gedetailleerde beelden
Multi-zone LED-verlichting.
Altijd perfecte verlichting, ongeacht het oppervlak
Geautomatiseerde meetkap.
Handmatige of geautomatiseerde bediening voor maximale flexibiliteit
Geoptimaliseerde meetgeometrie.
Ongeëvenaarde meetnauwkeurigheid dankzij de grotere afstand tussen röntgenbuis, monster en detector.
Intuïtieve statusverlichting.
In één oogopslag de status van het apparaat
Kenmerken
Microfocusbuis met wolfraamanode, andere anoden op aanvraag verkrijgbaar
Geautomatiseerde meetkap
Siliciumdriftdetector 20 mm² of 50 mm² voor de hoogste precisie op dunne lagen
4-voudig verwisselbare diafragma's en 6-voudig verwisselbare filters
Type goedgekeurde volledige beveiliging
Software FISIQ® X met AI-ondersteunde spectrummodus voor slimmere meetprocessen
Traploze meetafstand met meten van boven naar beneden
Tot 140 mm mogelijke hoogten van monsters
Programmeerbare meettafel voor geautomatiseerde metingen
Toepassingsvoorbeelden
- Analyse van zeer dunne coatings, bijv. goud/palladium coatings van ≤ 50 nm (0,002 mils)
- Metingen van functionele coatings in de elektronica- en halfgeleiderindustrie, bijv. bepaling van de coatingdikte van goudlagen tot 2 nm (0,00008 mils) voor loodframes
- Meting van ultradunne coatings op silicium wafers
- Bepaling van coatings van lichte elementen op wafers (Al, Ti, NiP)
- Brandstofcel- en batterijfolies: metalen (Pt, Ir, Ce; Ni, Co, Mn) in organische matrix (koolstof)
- Goudanalyse met de hoogste eisen
- Bepaling van complexe multi-coating systemen
- Geautomatiseerde metingen, bijv. bij kwaliteitscontrole
Heb je nog meer toepassingen? Neem dan contact met ons op!
































































