FISCHERSCOPE® XDV®
Nieuwmet geoptimaliseerde meetgeometrie
monsterpositionering
gebruikersbegeleiding met FISIQ® X-software
Snelheid ontmoet precisie.
Ontworpen voor maximale snelheid, hoogste precisie en intuïtief gebruiksgemak – zo introduceren we de nieuwe generatie FISCHERSCOPE® XDV® XRF-instrumenten. Als een van onze high-end XRF-oplossingen is het instrument ontworpen voor het betrouwbaar meten van microstructuren. In combinatie met onze geavanceerde FISIQ® X software levert het apparaat uitstekende meetprestaties. Bovendien zorgen vereenvoudigde en efficiënte workflows voor soepele meetprocessen en een aanzienlijk hogere doorvoer in uw kwaliteitscontrole.
Supersnelle monsterpositionering.
Hoge snelheid Z-as, 6x sneller*
Snelle monsteropname.
Autofocus binnen 2 seconden – 14x sneller*
Geautomatiseerde bediening.
Geautomatiseerde of handmatige kap voor maximale flexibiliteit
Optimale monsterverlichting en beeldopname.
10x hogere* cameraresolutie en multizone LED-verlichting
* Vergeleken met FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-SDD.
Ongeëvenaarde hoge precisie en reproduceerbare resultaten.
Geoptimaliseerde meetgeometrie
Apparaatstatus altijd zichtbaar.
Intuïtief 180° statuslampje
Verbeterde gebruiksvriendelijkheid en gebruikersbegeleiding.
Nieuwe FISIQ® X software
Kenmerken
Microfocusbuis met wolfraamanode, andere anoden op aanvraag verkrijgbaar
Siliciumdriftdetector 50 mm² voor de hoogste precisie op dunne lagen
Geautomatiseerde afzuigkap en programmeerbare meettafel voor geautomatiseerde metingen
4-voudig verwisselbare diafragma's en 6-voudig verwisselbare filters
Individuele goedkeuring als volledig beschermd instrument
FISIQ® X-software met AI-ondersteunde spectrummodus voor slimmere meetprocessen
Traploze meetafstand met meten van boven naar beneden
Tot 140 mm mogelijke hoogte van monsters
Toepassingsvoorbeelden
- Analyse van zeer dunne coatings, bijv. goud/palladium coatings van ≤ 50 nm (0,002 mils)
- Metingen van functionele coatings in de elektronica- en halfgeleiderindustrie, bijv. bepaling van de coatingdikte van goudlagen tot 2 nm (0,00008 mils) voor loodframes
- Meting van ultradunne coatings op silicium wafers
- Bepaling van coatings van lichte elementen op wafers (Al, Ti, NiP)
- Brandstofcel- en batterijfolies: metalen (Pt, Ir, Ce; Ni, Co, Mn) in organische matrix (koolstof)
- Goudanalyse met de hoogste eisen
- Meting van complexe meerlagige systemen
- Geautomatiseerde metingen, bijv. bij kwaliteitscontrole
Heb je nog meer toepassingen? Neem dan contact met ons op!
































































