Jump to the content of the page

Features

  • Gelijktijdige meting van maximaal 24 elementen, van Al(13) tot U(92), XDV-μ LD: S(16)-U(92)
  • Geavanceerde polycapillaire optica focust de röntgenstraal tot 10 μm (FWHM)) voor het meten op microstructuren
  • Programmeerbare XY-tafel en patroonherkenning voor automatische metingen op meerdere monsters
  • Uitschuifbaar monsterplateau voor eenvoudige positionering van het monster
  • Begeleid kalibratieproces
  • Robuust ontwerp voor langdurig gebruik
  • Optische microscoop (270x vergroting) met video; laserpointer om de exacte meetspot te tonen
  • Fundamentele parameteranalyse voor metingen zonder kalibratie
  • Voldoet aan IPC-4552A, 4553A, 4554 en 4556, ASTM B568, ISO 3497
  • Fischer's gecertificeerde standaarden zijn herleidbaar tot internationaal erkende basiseenheden

Toepassingen

  • Au/Pd/Ni/CuFe- en Sn/Ni-coatings in het micro- en nanometerbereik
  • Gemonteerde en niet-gemonteerde printplaten
  • Testen van basismetallisatielagen (Under-bump Metallization, UBM) in het nanometerbereik
  • Meting van lichte elementen, bijvoorbeeld bepaling van het fosforgehalte (in ENEPIG en ENIG) onder Au en Pd
  • Loodvrije soldeerdoppen op koperen pilaren
  • Testen van de elementaire samenstelling van C4 en kleinere soldeerhobbels, evenals kleine contactvlakken in de halfgeleiderindustrie

Soldeerhobbels? PCB 's? Leadframes? Meet dit alles en meer met slechts één instrument!

De FISCHERSCOPE® XDV®-μ spectrometers zijn Fischer's high-end röntgenfluorescentieseries, ontwikkeld voor nauwkeurige laagdiktemeting en materiaalanalyse op de kleinste structuren. Alle units zijn uitgerust met een polycapillaire optiek die de röntgenstraal bundelt op 10μm (FWHM). De polycapillaire optiek produceert een hoge stralingsintensiteit, wat de meettijd drastisch vermindert in vergelijking met een optiek met collimator. 

Alle Fischer XRF-instrumenten worden geleverd met de veelzijdige WinFTM-software, waarmee u een breed scala aan toepassingen met superieure nauwkeurigheid kunt meten. WinFTM heeft ook een geïntegreerde tool voor het genereren van rapporten waarmee u met één klik individuele rapporten kunt maken. Bovendien biedt de WinFTM-software begeleide kalibratie. 

De XDV-μ-apparaten werken met een reeks filters, spannings- en stroominstellingen waarmee u de beste excitatieomstandigheden kunt creëren voor complexe toepassingen met maximaal 24 elementen. Bovendien heeft de XDV-μ een programmeerbare XY-tafel en patroonherkenningssoftware om geautomatiseerde metingen op meerdere samples zo eenvoudig mogelijk te maken. 

In de standaardversie is de XDV-μ uitgerust met een wolfraam röntgenbuis voor hoge precisie in algemene toepassingen. Molybdeen- en chroomvarianten zijn ook beschikbaar. 

De XDV-μ instrumenten zijn uitgerust met een grote siliciumdriftdetector (50 mm² effectief gebied) en de nieuwe digitale pulseprocessor (DPP+). Samen zorgen deze componenten voor zeer hoge telsnelheden, wat dient om de meettijd te minimaliseren en tegelijkertijd de herhaalbaarheid te optimaliseren.

Gespecialiseerde instrumenten voor speciale toepassingen

De XDV-μ-serie omvat gespecialiseerde apparaten die zijn afgestemd op specifieke toepassingen in de elektronica- en halfgeleiderindustrie. Zo is de XDV-μ LD op maat gemaakt voor metingen op geassembleerde PCB's, heeft de XDV-μ Wafer een geautomatiseerde wafer chuck en is het XDV-μ LEAD FRAME geoptimaliseerd voor het meten van lead frame coatings.

Wil je meer weten? Stuur ons uw monster of regel uw gratis demonstratie van de XDV-μ serie vandaag!

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ / XDV-μ LD

We hebben de FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ speciaal ontwikkeld voor het meten van de kleinste structuren en componenten met korte meettijden. Een siliciumdriftdetector met een groot oppervlak en de polycapillaire optiek maken nauwkeurige, herhaalbare metingen mogelijk, bijvoorbeeld op bindingsoppervlakken, SMD-componenten of dunne draden. Dat maakt een nauwkeurige kwaliteitsbewaking van de coatings op printplaten mogelijk - en garandeert hun langdurige werking.

De FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ LD is uw röntgenfluorescentie-instrument voor het meten van omvangrijke monsters. Door de meetafstand van 12 mm kunnen zelfs geassembleerde printplaten zonder problemen worden gemeten.

  • Microfocusbuis met wolfraamanode; molybdeenanode optioneel verkrijgbaar
  • Flexibele, 4-voudige verwisselbare primaire filter
  • Polycapillaire optiek voor bijzonder kleine meetpunten (10 - 60 µm FWHM) met korte meettijden
  • Siliconendriftdetectoren met 20 of 50 mm² effectieve oppervlakten
  • Videosysteem met 3× optisch gezoem voor het nauwkeurig positioneren van de monsters
  • Nauwkeurige, programmeerbare meetfase voor geautomatiseerde metingen

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ WAFER

Wafers stellen de hoogste eisen aan de gebruikte meettechniek. Ten eerste zijn de oppervlakken zeer gevoelig. Ten tweede zijn de structuren zo klein dat alleen speciale apparaten ze kunnen analyseren. Door de programmeerbare meettafel met vacuümwafelhouder is de FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFER speciaal ontworpen voor de halfgeleiderindustrie.

De in het apparaat geïntegreerde polycapillaire optiek richt de röntgenstraling op de kleinste meetpunten (10 - 20 µm). Zo kunt u met de XDV-µ WAFER individuele microstructuren veel nauwkeuriger analyseren dan met elk conventioneel apparaat het geval is. En natuurlijk kan dit automatisch gebeuren.

  • Speciaal apparaat voor geautomatiseerde metingen op wafers met een diameter van 6 tot 12 inch
  • Microfocusbuizen met molybdeen-anode standaard, wolfraam-anode optioneel verkrijgbaar
  • 4-voudig automatisch verwisselbaar filter
  • Optimale lokale resolutie; halogeenvrije polycapillaire optiek maakt meetpunten van 10 of 20 µm FWHM mogelijk.
  • Siliconendrijfdetector voor maximale precisie op dunne lagen
  • Nauwkeurige, programmeerbare meetfase met vacuümwafelhouder voor geautomatiseerde metingen aan kleine structuren

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ LEAD FRAME

Vertrouw op de specialist voor lead frames. Met de FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ LEAD FRAME kunt u dunne lagen en meerlaagse systemen in het nanometerbereik nauwkeurig testen op zeer vlakke micro-elektrische componenten. Een typische samenstelling is goud, palladium en nikkel op een CuFe-substraat. Ook is deze röntgenfluorescentiemeter perfect geschikt voor het bepalen van het fosforgehalte in NiP-lagen.

De XDV-µ LEAD FRAME heeft zowel uitwisselbare primaire filters als polycapillaire optiek die ontworpen zijn voor lage energieën. Dat schept de ideale voorwaarden voor de betreffende meting.

  • Heliumspoeling maakt het mogelijk om zelfs zeer lichte elementen te meten vanaf natrium.
  • Polycapillaire optiek
  • Hoogvermogenbuizen met chromen anode
  • 4-voudig automatisch verwisselbaar filter
  • Hoge-resolutie CCD-kleurencamera, dradenkruis met gekalibreerde schaal, instelbare LED-verlichting en laseraanwijzer (klasse 1) voor een exacte monsterplaatsing
  • Siliconendrijfdetector
  • Snelle, programmeerbare XY-fase met pop-outfunctie en elektrisch aangedreven Z-as voor geautomatiseerde metingen

Downloads

Naam Type Grootte Download
Jump to the top of the page