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特長

  • アルミニウム Al(13)からウラン U(92)まで、最大24種類の元素を同時測定
  • ポリキャピラリーレンズ:測定スポットサイズ最小Φ約10 µm(オプション)により微細構造の測定に対応
  • プログラム可能なXY測定ステージと画像認証機能により複数のサンプルを自動測定
  • 堅牢な設計による長期安定性
  • 高解像度カラーカメラを使用した光学顕微鏡による測定位置、サンプル位置決めをサポートするレーザーポインター
  • FISCHERのFP法(Fundamental Parameter Method)により、キャリブレーションなく簡単に膜厚測定と素材分析
  • IPC-4552A, 4553A, 4554 and 4556, ASTM B568, ISO 3497に準拠
  • FISCHERの校正証明書付きでトレーズ可能なキャリブレーション標準板

アプリケーション

  • マイクロおよびナノメーターレンジのAu/Pd/Ni/CuFeやSn/Niのメッキ測定
  • PCBの実装または未実装基板の測定
  • ナノメーターレンジのベースメタライズ層(UBM)の測定
  • 軽元素の測定、ENEPIGやENIGにおけるリン濃度測定
  • 鉛フリーはんだ銅柱
  • C4はんだバンプ、半導体産業における微小な接点の測定

ソルダーバンプ、PCB、リードフレームなどの測定に

FISCHERSCOPE® XDV®-μは、フィッシャーの蛍光X線式測定器のハイエンドモデルであり、非常に小さな部品や構造部分、複雑な多層膜を高精度に膜厚測定および素材分析できるよう開発されました。このシリーズには、最小約10 µm(オプション)のスポットサイズのポリキャピラリーレンズを搭載しています。ポリキャピラリーレンズにより、非常に高い励起強度を得ることができるため、短い測定時間で結果を得ることができます。

 

全てのフィッシャーの蛍光X線式測定器には、WinFTMという評価ソフトウェアが供給されます。このソフトウェアにより、精度よく広範囲にアプリケーションに対応します。また、簡単操作で作成できるレポート機能や簡単に実施できるよう各ステップが表示されるキャリブレーション機能などが備えられています。

XDV-µは、最適な励起条件を作るためにフィルターならびに電圧の設定をすることができます。 加えて、プログラム可能なXY測定ステージおよび画像認証機能により、複数のサンプルを自動測定することができます。

特別なアプリケーション向けのXRF測定器

XDV-μシリーズは、電子部品ならびに半導体産業向けに特別に設計されたモデルもあります。例えば、XDV-µ PCBやXDV-µ LDはPCBの測定向け、XDV-µ WAFERはウェハーの測定向け、XDV-µ LEAD FRAMEはリードフレームの測定向けに専用に設計されたモデルです。

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ / XDV-μ LD

FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µは、特に微小構造の測定を短時間で測定できるように開発しました。シリコン・ドリフト検出器およびポリキャピラリーレンズにより、正確かつ高精度な測定を確実にします。例えば、表面実装部品や細いワイヤーの測定などにも対応できます。また、プリント回路基板上のメッキ皮膜の測定に対しても長期安定性に優れています。

 

FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ LDは、大型のサンプルの測定に適しています。段差のある実装済みのPCBに対してもサンプルとの距離が12 mmまで対応しているため問題なく測定できます。

  • マイクロフォーカスチューブおよびWターゲット(オプションにより、Moターゲットも選択可)
  • 4種類の切替式一次フィルター
  • ポリキャピラリーレンズ搭載(測定スポット ï¼ˆç´„10 – 60 µm FWHM))
  • シリコン・ドリフト検出器(20または50 mm² の有効測定面積)
  • 光学ズームにより正確な測定位置合わせ
  • プログラム可能な測定ステージによる自動測定

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ WAFER

ウェハーの測定技術は最も高い要求を満たす必要があります。
第一に、測定試料の表面は非常に繊細です。次に、構造がとても微小構造であり専用の設計が必要です。FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFERは、プログラム可能な測定ステージを搭載な上に、バキュームチャックがついた特に半導体産業向けに特別に設計されたモデルです。

 

ポリキャピラリーレンズは、X線を集光させ、測定スポット最小10 µm(オプション)を実現しています。これにより、XDV-µ WAFERでは、従来の装置では測定ができなかった微細構造の測定を可能としました。また、この測定器では自動で測定することもできます。

  • 最大Φ300 mmまでのシリコンウェハーに対応
  • マイクロフォーカスチューブ、Moターゲットを標準装備(オプションで、Wターゲット搭載可)
  • 4種類の切替式一次フィルター
  • 3つのポリキャピラリーレンズオプション:約Φ20 µm non halo-free、約Φ20 µm halo-free、約Φ10 Âµm halo-free
  • シリコン・ドリフト検出器
  • ウェハーを固定させるバキュームチャックが備えられており、ウェハーの測定箇所を精度よく設置

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ LEAD FRAME

FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ LEAD FRAMEは、ナノメートルレンジにおける薄膜で多層膜構造測定を高精度に行えます。CuFe上の金、パラジウムやニッケルの測定など。また、NiPのリン含有量の測定にも適しています。

 

XDV-µ LEAD FRAMEは、ポリキャピラリーレンズおよび交換式の一次フィルターを搭載しています。これにより、それぞれ理想的な測定条件を作ることができます。

  • ヘリウムパージ(オプション)により、Naからの軽元素の測定
  • ポリキャピラリーレンズ搭載
  • X線チューブに、Crターゲット
  • 4種類の交換式の一次フィルター
  • 高解像度のCCDカラーカメラ、校正済みスケール付のクロスヘア、測定位置を示す輝度調整可能なLED照明、サンプル位置決めをサポートするレーザーポインタークロスヘア
  • シリコン・ドリフト検出器
  • プログラム可能なXY測定ステージおよび電動式のZ軸搭載による自動測定

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