FISCHERSCOPE® X-RAY XDV-µ® WAFER
precisione anche con tempi di misura brevi
con il punto più piccolo di 10 µm (FWHM)
per la misura affidabile di piccole strutture
¹ Aumento delle prestazioni fino al 50%: Deviazione standard significativamente migliorata e quindi capacità di misura o tempo di misura significativamente ridotto rispetto ai DPP e DPP+.
² Ottica capillare di alta gamma prodotta da Fischer, l'unico produttore al mondo di strumenti di misura a fluorescenza a raggi X con una propria produzione di policapillari. Sono disponibili tre diversi policapillari di fascia alta: la soluzione giusta per ogni applicazione: 10 µm halo free, 20 µm halo free o 20 µm halo.
Soddisfa tutti i requisiti per un controllo accurato dei wafer.
Grazie al tavolo di misura programmabile con mandrino per wafer sotto vuoto e al tubo microfocale Ultra, il FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFER è studiato su misura per l'industria dei semiconduttori. L'ottica policapillare incorporata nel dispositivo XRF concentra la radiazione X su piccoli spot di misura di 10 o 20 µm con tempi di misura brevi ad alta intensità. Ciò consente di analizzare singole microstrutture in modo molto più preciso rispetto agli strumenti convenzionali e in maniera completamente automatizzata.
Soluzione completamente integrata.
XDV®-μ SEMI combinato con un mandrino per wafer a vostra scelta.
Accurato e preciso.
Posizionamento del punto di misura su strutture di piccole dimensioni grazie al riconoscimento automatico delle immagini.
Per affrontare tutte le sfide.
Risultati affidabili e veloci per misure complesse
Completamente automatizzabile.
Lasciate che il vostro strumento lavori per voi con un solo clic.
Le ottiche policapillari più avanzate del mercato.
Le nostre ottiche policapillari prodotte internamente forniscono risultati di misura eccezionali con tempi di misura ridotti.
Processore di impulsi digitali DPP+.
Tempi di misura più brevi o miglioramento della deviazione standard*.
*rispetto al DPP
Caratteristiche
Tubo microfocale Ultra con anodo di tungsteno per prestazioni ancora più elevate sui punti più piccoli con µ-XRF; anodo di molibdeno opzionale
DPP+ per la massima precisione anche con tempi di misura ridotti
Filtri inrercambiabili (4)
Le ottiche policapillari di nostra produzione consentono di ottenere punti di misura particolarmente piccoli con un'intensità elevata
Punto di misura ca: Ø 10 o 20 µm (FWHM)
E' possibile misurare campioni con altezza fino a 5 mm
Rilevatore di deriva al silicio con 20 o 50 mm² per la massima precisione su strati sottili
Tavolo sottovuoto con supporti per tutti i formati standard di wafer da 150 a 300 mm
Ampie opzioni per l'automazione con WinFTM®
Esempi di applicazione
- Misura delle strutture più piccole su wafer fino a 12 pollici di diametro
- Analisi di rivestimenti molto sottili, come gli strati di oro/palladio fino a < 10 nm
- Misura automatizzata, ad esempio nel controllo qualità
- Determinazione di sistemi multistrato complessi
Avete altre applicazioni? Allora contattateci!