FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ
¹ Deviazione standard significativamente migliorata e quindi capacità di misura o tempo di misura significativamente ridotto rispetto a DPP e DPP+.
² Ottica policapillare, in costante sviluppo. Ottiche capillari di alta gamma prodotte da Fischer, l'unico produttore al mondo di strumenti di misura a fluorescenza a raggi X con una propria produzione di policapillari.
Sono disponibili tre diversi policapillari di fascia alta: la soluzione giusta per ogni vostra applicazione: 10 µm halo-free, 20 µm halo-free o 20 µm µm halo.
Per le esigenze più elevate fino al più piccolo µ.
Gli strumenti FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ sono gli struementi Fischer di fascia alta per la misura della fluorescenza a raggi X e sono ideali per misurare strutture minuscole. Sono dotati di potenti rilevatori a deriva di silicio di ultima generazione, di tubi microfocali Ultra e di ottiche policapillari di nostra produzione. Grazie all'elevata intensità di radiazione, i tempi di misura si riducono drasticamente e sono possibili misure estremamente precise sui punti di misura più piccoli.
Per affrontare tutte le sfide.
Risultati affidabili e veloci per misure ambiziose
Le ottiche policapillari più avanzate del mercato.
Le nostre ottiche policapillari prodotte all'interno della nostra azienda forniscono risultati di misura eccezionali con tempi di misura ridotti.
Accurato e preciso.
Posizionamento del punto di misura su strutture di piccole dimensioni grazie al riconoscimento automatico dell'immagine
Completamente automatizzabile.
Lasciate che il vostro strumento lavori per voi con un semplice clic.
Processore di impulsi digitali DPP+.
Tempi di misura più brevi o miglioramento della deviazione standard*.
*Rispetto al DPP
Caratteristiche
Tubo microfocale Ultra con anodo di tungsteno per prestazioni ancora più elevate sui punti più piccoli; anodo di molibdeno opzionale
Filtro intercambiabile
Tassi di conteggio più elevati e tempi di misurazione significativamente ridotti grazie a DPP+
Le ottiche policapillari consentono di ottenere punti di misura particolarmente piccoli con tempi di misurazione brevi e ad alta intensità
Punto di misura ca: Ø 10 o 20 µm
Rilevatore di deriva al silicio con area attiva di 20 o 50 mm² per garantire la massima precisione
E' possibile misurare campioni con altezza fino a 135 mm
Esempi di applicazione
- Misura su componenti e strutture piane di dimensioni ridotte come tracce, contatti o lead frame
- Misura di strati funzionali nell'industria elettronica e dei semiconduttori
- Determinazione di sistemi multistrato complessi
- Misura automatizzata, ad esempio nel controllo qualità
- Misura di elementi leggeri, ad esempio determinazione del contenuto di fosforo nel nichel elettrolitico sotto oro e palladio (ENIG/ENEPIG)
Avete altre applicazioni? Allora contattateci!
Note applicative
AN003 High repeatability precision and trueness of Au/Pd coating measurements on leadframes 0.69 MB AN008 Thickness and composition of NiP on connectors or small structures on PCBs 0.56 MB AN032 Material analysis of solder bumps in the Integrated circuit (IC) packaging industry 0.57 MB AN092 How to choose an XRF instrument 1.29 MB AN093 XRF analysis for non-destructive coating thickness measurement in the field of cold forging 0.75 MB AN098 Optimized for the electronics industry: Measuring ENIG and ENEPIG on a new level 1.46 MB AN109 Measuring very thin components and foils with the sample stage Zero Background 0.41 MBVideo del prodotto
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