FISCHERSCOPE® X-RAY XDV-µ® WAFER
précision, même avec des temps de mesure courts
interne², avec le plus petit spot de 10 µm (FWHM)
d'images pour une mesure fiable des petites structures
¹ Jusqu'à 50 % d'augmentation des performances : Amélioration significative de la déviation standard et donc de la capacité de mesure ou réduction significative du temps de mesure entre le DPP et le DPP+.
² Optique capillaire haut de gamme fabriquée par Fischer - le seul fabricant au monde d'instruments de mesure par fluorescence X qui possède sa propre production de polycapillaires. Trois différents polycapillaires haut de gamme sont disponibles - la bonne solution pour chacune de vos applications : 10 µm sans halo, 20 µm sans halo ou 20 µm avec halo.
Répond à toutes les exigences d'un contrôle précis des wafers.
Grâce à la table de mesure programmable avec aspiration et tube microfoyer Ultra, le FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFER est parfaitement adapté aux besoins de l'industrie des semi-conducteurs. L'optique polycapillaire intégrée à l'appareil XRF concentre le rayonnement X sur des spots de mesure de 10 ou 20 µm pour des temps de mesure courts à haute intensité. Cela permet d'analyser des microstructures individuelles avec beaucoup plus de précision qu'avec les appareils conventionnels, et ce de manière entièrement automatisée.
Solution entièrement intégrée.
XDV®-μ SEMI combiné avec le manipulateur de wafer de votre choix.
Programmable.
Mesures automatisées sur des structures prédéfinies grâce à une technologie avancée de reconnaissance de formes
Relever tous les défis.
Résultats fiables et rapides pour des tâches de mesure ambitieuses.
Entièrement automatisable.
Laissez votre instrument travailler pour vous en un seul clic
Optique polycapillaire la plus avancée du marché.
Nos optiques polycapillaires fabriquées en interne fournissent des résultats de mesure exceptionnels avec des temps de mesure courts.
Processeur d'impulsions numérique DPP+.
Temps de mesure plus courts ou amélioration de l'écart-type*
*par rapport au DPP
Équipement spécialisé pour la mesure automatisée de couches minces et de systèmes multicouches sur des wafers de 6 à 12 pouces de diamètre.
Avec le tube microfoyer Ultra, l'intensité de l'excitation est considérablement augmentée. Cela permet d'obtenir des mesures encore plus performantes avec des points de mesure plus petits.
L'optique polycapillaire permet d'obtenir des spots de mesure particulièrement petits de 10 ou 20 µm FWHW et une résolution locale optimale.
Transmission, exploitation et exportation des données de mesure en temps réel avec WinFTM®, le logiciel d'application le plus puissant du marché.
Caractéristiques
Tube microfoyer Ultra avec anode en tungstène pour des performances encore plus élevées sur les plus petits spots avec µ-XRF ; anode en molybdène en option
DPP+ pour une précision maximale même avec des temps de mesure courts
4 filtres interchangeables
Les optiques polycapillaires fabriquées en interne permettent d'obtenir des points de mesure particulièrement petits avec une intensité élevée.
Point de mesure env : Ø 10 ou 20 µm (FWHM)
Jusqu'à 5 mm de hauteur possible pour les échantillons
Détecteur de dérive au silicium de 20 ou 50 mm² pour une précision maximale sur les couches minces
Table sous vide avec supports pour tous les formats de wafers standard de 150 à 300 mm
Nombreuses possibilités d'automatisation avec WinFTM®.
Exemples d'application
- Mesure des plus petites structures sur des wafers d'un diamètre allant jusqu'à 12 pouces
- Analyse de revêtements très fins, tels que les couches d'or/palladium jusqu'à < 10 nm
- Mesures automatisées, par exemple dans le cadre du contrôle de la qualité
- Détermination de systèmes multicouches complexes
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