FISCHERSCOPE® X-RAY XDV-µ® WAFER
incluso con tiempos de medición cortos
con menor tamaño de punto 10 µm (FWHM)
para la medición confiable de estructuras pequeñas
¹ Hasta un 50 % más de rendimiento: Desviación estándar significativamente mejorada y, por tanto, capacidad de calibración o tiempo de medición significativamente reducido en comparación con DPP a DPP+.
² Óptica capilar de alta gama fabricada por Fischer - el único fabricante mundial de instrumentos de medición de fluorescencia de rayos X con producción propia de policapilares. Tres diferentes policapilares de alta gama disponibles - la solución correcta para cada una de sus aplicaciones: 10 µm sin halo, 20 µm sin halo o 20 µm con halo.
Cumple todos los requisitos para un control preciso de semiconductores.
Gracias a la mesa de medición programable con soporte de vacío para semiconductores y tubo de microenfoque Ultra, el FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFER está óptimamente adaptado a las necesidades de la industria de semiconductores.
La óptica policapilar integrada en el dispositivo XRF concentra la radiación de rayos X en pequeños puntos de medición de 10 ó 20 µm para tiempos de medición cortos a alta intensidad. Esto permite analizar microestructuras individuales con mucha más precisión que con los dispositivos convencionales, y de forma totalmente automatizada.
Solución totalmente integrada.
XDV®-μ SEMI combinado con soporte de semiconductores de su elección.
Programable.
Mediciones automatizadas en estructuras predefinidas gracias a la avanzada tecnología de reconocimiento de patrones
A la altura de todos los retos.
Resultados confiables y rápidos para mediciones complejas.
Totalmente automatizable.
Deje que su instrumento trabaje por usted con un solo click.
La óptica policapilar más avanzada del mercado.
Nuestras ópticas policapilares de fabricación propia ofrecen resultados de medición extraordinarios en tiempos de medición cortos.
Procesador digital de impulsos DPP+.
Tiempos de medición más cortos o mejora de la desviación estándar*.
*en comparación con el DPP
Características
Tubo de microenfoque Ultra con ánodo de tungsteno para un rendimiento aún mayor en los puntos más pequeños con µ-XRF; ánodo de molibdeno opcional
DPP+ para la máxima precisión incluso con tiempos de medición cortos
Filtro cuádruple intercambiable
La óptica policapilar de fabricación propia permite puntos de medición especialmente pequeños con alta intensidad
Punto de medición aprox: Ø 10 ó 20 µm (FWHM)
Hasta 5 mm de altura posible de las muestras
Detector de deriva de silicio de 20 ó 50 mm² para la máxima precisión en capas finas
Mesa de vacío con soportes para todos los formatos de semiconductores estándar de 150 - 300 mm
Diferentes opciones de automatización con WinFTM®
Ejemplos de aplicación
- Medición de las estructuras más pequeñas en semiconductores de hasta 12 pulgadas de diámetro
- Análisis de recubrimientos muy finos, como capas de oro/paladio de hasta < 10 nm
- Medición automatizada, como en el control de calidad
- Determinación de sistemas multicapa complejos
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